反射式光學膜厚儀

反射式光學膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環(huán)境下也能穩(wěn)定工作。

產品品牌：霍爾德?電子

價格：我要詢價

廠商性質：生產廠家

產品時間： 2026-03-13

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產品概述

反射式光學膜厚儀測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發(fā)出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數(shù)等關鍵信息，設備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數(shù)及粗糙度等參數(shù)，整個系統(tǒng)由高強度組合光源提供寬光譜入射光，經光學系統(tǒng)傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機軟件完成數(shù)據(jù)處理與結果輸出。

產品特點

1. 精準測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準確度±1nm、重復精度0.05nm，滿足精密檢測需求；

2. 高速采樣：采樣速度100Hz，適配產線快速檢測，提升測量效率；

3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；

4. 強抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統(tǒng)+多參數(shù)反演算法，復雜環(huán)境下測量穩(wěn)定；

5. 靈活易適配：支持自定義膜結構測量，設備小巧易安裝，配套軟件及二次開發(fā)包，適配實驗室/產線多場景。

反射式光學膜厚儀技術參數(shù)

型號	HD-FT50UV	HD-FT50NIR
建議工作距離	非聚焦光束，安裝距離5至10mm	安裝側面出光附加鏡時：34.5mm±2mm；軸向出光時：55mm±2mm；
測量角度	±10°	±5°
光斑類型	彌散光斑；在10mm安裝距離時，光斑直徑約為4mm；	聚焦光斑；約200μm
探頭外徑*長度	Φ6.35*3200mm3	Φ20*73mm
探頭重量	190g	108g（探頭）、49g（附加鏡）
光源類型	氘鹵光源	鹵素光源
波長范圍	190-1100nm	400-1100nm；1000-1700nm
測厚范圍	約20nm~50μm（折射率1.5時）	約50nm~50μm（折射率1.5時）
適配探頭	UV-VIS	VIS-NIR軸向； VIS-NIR徑向；（標配其一）
可連探頭數(shù)量	1
探頭防護等級	IP40
重復精度	0.05nm
準確度	<±1nm或±0.3%（取較大值）
采樣頻率	Max.100Hz（視求解參數(shù)復雜度而定）
測控軟件	專用上位機軟件
電源電壓	220V±20V50HzAC/
功率	50W
工作溫度	-10至+40℃
相對濕度	20%至85%RH（無冷凝）
控制器重量	約5000g